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    標題 事關 EUV 光刻技術 華為公布新專利
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    近日，據國家知識產權局官網消息，華為技術有限公司于 11 月 15 日公布了一項于光刻技術相關的專利，專利申請號為 202110524685X。

    集成電路制造中，光刻覆蓋了微納圖形的轉移、加工和形成環節，決定著集成電路晶圓上電路的特征尺寸和芯片內晶體管的數量，是集成電路制造的關鍵技術之一。

    隨著半導體工藝向 7nm 及以下節點的推進，極紫外 ( extreme ultraviolet，EUV ) 光刻成為首選的光刻技術。

    相關技術的 EUV 光刻機中采用強相干光源在進行光刻時，相干光經照明系統分割成的多個子光束具有固定的相位關系，當這些子光束投射在掩膜版上疊加時會形成固定的干涉圖樣，出現有明暗變化、光強不均勻的問題，因此，必須先進行去相干處理 ( 或者采用避免相干影響 ) ，達到勻光效果，以保證光刻工藝的正常進行。

    據披露，該專利申請提供一種反射鏡、光刻裝置及其控制方法，涉及光學領域，能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基礎上進行了優化，進而達到勻光的目的。

    該光刻裝置包括相干光源 1、反射鏡 2 ( 也可以稱為去相干鏡 ) 、照明系統 3。其中，反射鏡 2 可以進行旋轉；例如，可以在光刻裝置中設置旋轉裝置，反射鏡 2 能夠在旋轉裝置的帶動下發生旋轉，如下圖所示。

    6381c8b48e9f09159405d415_10244518.jpg在該光刻裝置中，相干光源 1 發出的光線經旋轉的反射鏡 2 的反射后，通過照明系統 3 分割為多個子光束并投射至掩膜版 4 上，以進行光刻。

    另外，在光刻裝置中，上述照明系統 3 作為重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明 ( 勻光 ) 、控制曝光劑量和實現離軸照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。述照明系統 3 的勻光功能可以是通過科勒照明結構實現。

    該照明系統 3 包括視場復眼鏡 31 ( field flyeye mirror，FFM ) 、光闌復眼鏡 32 ( diaphragm flyeye mirror，PFM ) 、中繼鏡組 33；

    其中，中繼鏡組 33 通?？梢园▋蓚€或者兩個以上的中繼鏡。照明系統 3 通過視場復眼鏡 31 將來自相干光源 1 的光束分割成多個子光束，每個子光束再經光闌復眼鏡 32 進行照射方向和視場形狀的調整，并通過中繼鏡組 33 進行視場大小和 / 或形狀調整后，投射到掩膜版 4 的照明區域。

    通過在相干光源 1 與照明系統 3 之間的光路上設置反射鏡 2，在此情況下，相干光源 1 發出的光線經旋轉的反射鏡 2 反射后相位不斷發生變化。

    這樣一來，在經反射鏡 2 反射后的光線通過照明系統 3 分割為多個子光束并投射至掩膜版 4 上時，形成在掩膜版 4 的照明區域的干涉圖樣不斷變化，從而使得照明視場在曝光時間內的累積光強均勻化，從而達到勻光的目的，進而也就解決了相關技術中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。

    6381c8b48e9f09159405d416_10244518.jpg      事關 EUV 光刻技術 華為公布新專利 寧為雞首，無為牛后嬉皮笨嘴學舌笑臉32. 以前一度追求人生只若初相見，總覺得世間的緣分最美時，就是彼此擦肩回眸的一笑。事過境遷，體會到大多數驚鴻的一瞥，都如煙花般絢爛后又回到了寂靜。最后空留一座城，讓注重感情的人，一生心痛。21. The job was hard, which made me so tired that I almost quit half way.377.月滿則虧，水滿則溢。    池塘水綠風微暖，記得玉真初見面。重頭歌韻響琤琮，入破舞腰紅亂旋。野蔬充膳甘長藿，落葉添薪仰古槐。集成電路,專利申請,分辨率,國家知識產權局53、Sense comes with age.
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    更新時間：2025/7/22 21:35:25
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