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    標題 美光揭秘最先進 1 β 內存：13nm 工藝、無需 EUV 光刻機
    分類 熱點事件
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    全球 DRAM 內存芯片主要壟斷在三星、SK 海力士及美光手里，三家的份額高達 95%，同時技術也是領先的，美光前不久更是搶先宣布量產 1 β 內存芯片，這是當前最先進的內存芯片。

    內存工藝進入 20nm 節點之后，廠商的命名已經發生了變化，都被稱為 10nm 級內存，但有更細節的劃分，之前是 1x、1y 和 1z 三代，后面是 1 α，1 β，1 γ。

    在 1 α，1 β，1 γ 這三代中，三星在 1 α 上就開始用 EUV 光刻工藝，但是代價就是成本高，美光現在量產的 1 β 工藝就是最先進的。

    637773f88e9f0908d413017f_10240113.jpg1 β 到底相當于多少 nm？美光日前在日本舉行了一次溝通會，介紹了 1 β 內存的一些進展，指出它的工藝水平相當于 13nm，而且美光依然沒有使用 EUV 工藝，避免了昂貴的光刻機。

    不使用 EUV 光刻，美光在 1 β 內存上使用的主要是第二代 HKMG 工藝、ArF 浸液多重光刻等工藝，實現了 35% 的存儲密度提升，同時省電 15%。

    1 β 之后還有 1 γ 工藝，估計會是 12nm 級別，制造難度更大，但美光依然沒有明確是否使用 EUV 光刻機，他們的目標很可能是繼續使用現有工藝改進，避免 EUV 光刻機的成本。

    637773f88e9f0908d4130180_10240113.jpg      美光揭秘最先進 1 β 內存：13nm 工藝、無需 EUV 光刻機 萬陰雨連綿紫大汗淋漓千紅39. 誰都不喜愛負債，因此，這天得到你恩惠的人，很可能是以后最恨你的人！25.責任感 / 成就感 sense of responsibility/ sense of achievement78.孔子登東山而小魯，登泰山而小天下。    留春令　晏幾道劍河風急雪片闊，沙口石凍馬蹄脫。芯片,光刻機,三星,海力士,日本And in technology, when there are no conventional practices or ways of thinking to begin with, companies that fail to break away from last year’s paradigm are soon left behind by the competition.
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    更新時間：2025/7/2 22:59:59
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