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    標題 芯片巨頭美光:成功繞過了 EUV 光刻技術
    分類 熱點事件
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    美光本周宣布,采用全球最先進的1 (1-beta)制造工藝的DRAM內存芯片已經送往部分手機廠商和芯片平臺合作伙伴進行驗證,并準備量產。

    工藝可提高能效15%左右,存儲密度提高35%以上,單芯片容量高達16Gb (2GB)。

    值得注意的一點是,Micron表示1 繞過了EUV(極紫外光刻)工具,但仍然使用了DUV(深紫外光刻)。

    這意味著相比三星和SK海力士,美光需要更復雜的設計方案。畢竟,DRAM的進步很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導體的能力,目前各公司都在通過不斷縮小電路面積來競爭。

    同時,美光的產品最終可能在成本上具有比較優勢。

    據悉,美光已經率先在LPDDR5X移動存儲器上應用了1 工藝,還使用了第二代HKMG(高K金屬柵)工藝,最高速率8.5Gbps(相當于8500MHz)。

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         芯片巨頭美光:成功繞過了 EUV 光刻技術 流水人骨瘦如柴山人海無情37. 月亮西斜了,一副意興闌珊的樣子。有鳥啼,粗嘎嘶啞,是烏鴉。那月亮被它一聲聲叫得更黯淡了。江岸上,想已霜結干草。夜空里,星子亦如清霜,一粒粒冷艷凄絕。我容易相處并且喜歡交朋友。186.筆落驚風雨,詩成泣鬼神?!都睦钍锥崱?nbsp;   點絳唇 姜夔181王維:酬郭給事芯片,海力士,三星,半導體,晶圓Advertising is obviously the most influential art form in this century; it is, therefore, tempting to think that it is the most important.
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    更新時間:2025/7/4 16:55:33
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